| 平成１４年度特許出願技術動向調査報告を公表…経産省
【動向】発信：2003/05/09(金) 12:32:51 |
| 経済産業省と特許庁は８日、平成１４年度特許出願技術動向調査報告を公表した。本調査は、企業や研究機関の技術・研究開発、効果的な特許戦略の構築を支援を目的としたもので、平成１４年度は、科学技術基本計画の重点４分野を含む８分野を中心に、１４テーマを選定。今回は、その中の「医用画像診断装置」、「フォトマスク」、「建設ＩＴ技術」の３テーマを公表したもの。他のテーマについても順次公表していく予定。以下はプレス発表資料の概要。 ■１４テーマ名 １．ライフサイエンス ２．ナノテクノロジー―ボトムアップ型技術を中心に― ３．ＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｏｎ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）技術 ４．半導体設計支援（ＥＤＡ）技術 ５．環境低負荷エネルギー技術 ６．医用画像診断装置 ７．フォトマスク ８．建設ＩＴ技術 ９．自然冷媒を用いた加熱冷却 １０．先進安全自動車（運転負荷軽減技術） １１．次世代工作機械（高精度･高効率･環境対応･超精密機械加工技術） １２．音声認識技術 １３．ブロードバンドを支える変復調技術 １４．暗号技術 ■フォトマスク（半導体露光に使用する、ＩＣパターンの原版） 世界市場の動向では、半導体市場規模は横這いだが、フォトマスク市場は依然拡大中で、５社の寡占市場（７５%）。特に、線幅１３０ｎｍ用先端マスクは、日本企業３社がシェア９０％を占める。 出願動向では、８９年以降、位相シフトマスクに関する出願が急増（現在も主力研究技術の一つ）、９０年代後半からは、ＯＰＣマスク、ステンシルマスク（電子線）、ＥＵＶマスクに関する出願が増大。米、欧含め日本国籍出願人の出願が圧倒的に多いが、９７年以降は米国国籍出願人からの出願も増大している。 提言としは、Ｆ２露光、電子線露光およびＥＵＶ露光対応の次世代マスクの開発・実用化が課題で、政府プロジェクト、業種を越えた民間企業相互連携による、高レベルの研究開発が重要。これまで同様、今後も国際競争が予想される次世代技術については、積極的に海外への特許出願・権利化を図るべきとしている。 ■医用画像診断装置 日本市場の動向では、Ｘ線ＣＴは日本企業が８０％を占めるが、輸入が徐々に増加。ＭＲＩは輸入が一貫して増加、日本市場の６０〜７０％が外国製品。 出願動向では、日本国籍出願人は国内出願は多いが、米、欧への出願は積極的ではないのに対し、米、欧国籍出願人は他国へも積極的。Ｘ線ＣＴ・ＭＲＩとも米・欧では大学・研究機関・ベンチャーからの出願が多い。 提言としては、研究段階における、医師・大学等の研究者と企業との連携（医工連携）体制の整備が急務。大学発ベンチャーの育成も課題で、医工連携体制、ベンチャー企業の新技術を、特許により保護・活用することが重要としている。 |
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