| ソニーPSX搭載LSIはやはり90nm、別の加調査会社が発表
【企業】発信:2004/02/09(月) 16:34:45 |
| カナダの半導体リバース・エンジニアリング会社チップワークス社は4日、ソニーのPSXに搭載されているLSIを解析した結果、90nmプロセスが採用されていることが確認できたと発表した。 同社はPSXのLSIを分解調査した結果、ゲート長45−50nmのトランジスタが認められ、90nm技術が使われていると確信したという。これは、先日、同じカナダ調査会社のセミコンダクター・インサイツ(SI)社が、1月29日に発表した報告とは異なっている。SI社は、「ソニーが、90nm技術を用いたLSIと公表しているPSX搭載の「エモーションエンジン+グラフィックシンセサイザー(EE+GS)」には、実際には130nm技術が使われていることが判明した」と発表していた。 PSXは、ゲーム機PS2とハードディスク搭載DVDレコーダーの機能をあわせ持つ新世代のデジタルメディアプレーヤーとして、昨年12月から発売されているソニーの戦略商品で、PS2では2つに分かれていた「エモーションエンジン(EE)」と「グラフィックシンセサイザー(GS)」を90nm技術を用いて1チップ化したと発表されていた。 チップワークス社は、PSXのデバイスには、低誘電体(low−k)のスタック構造も使われており、デバイスは最先端プロセスで製造されているとするソニーと東芝の発表に同意するとしている。 【参考】ソニーPSX搭載LSIは90nm技術ではない、加調査会社分析 |
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