米トランスメタ、富士通に「低電力＋高性能技術」を供与 2004/12/06(月) 13:37:53

米トランスメタ、富士通に「低電力＋高性能技術」を供与
【企業】発信：2004/12/06(月) 13:37:53

　　　米トランスメタ社は１２月２日、パワー・マネジメントとトランジスタのリーク電流制御により、低電力の半導体製品を実現する新技術「ＬｏｎｇＲｕｎ２　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ（ＬｏｎｇＲｕｎ２）」を、富士通（株）にライセンス供与するとを発表した。富士通は現行製品と次世代の半導体製品に導入する予定という。

　　　ＬｏｎｇＲｕｎ２は、半導体プロセスの微細化進展により深刻化しているチップ発熱とトランジスタのリーク電流問題に起因する、半導体デバイスの消費・待機・バーンイン電力を削減する総合技術で、チップの性能向上とコスト削減を同時に可能にするという。同社の第１世代ＬｏｎｇＲｕｎパワー・マネジメント技術は、チップの動作周波数と電圧を毎秒数百回動的に調整して消費電力を削減をしていたが、ＬｏｎｇＲｕｎ２では、この手法をさらに進め、トランジスタのしきい値電圧を動的に調整することで、リーク電流をも制御することを可能にしたとしている。

　　　トランスメタ社は、２０００年に、低電力化技術とソフトウェアベースのインテル互換技術を組み合わせた低電力プロセッサ「Ｃｒｕｓｏｅ」を発表して注目され、２００３年１０月には、ＬｏｎｇＲｕｎ２技術による新製品「Ｅｆｆｉｃｅｏｎ．」プロセッサを発表している。

　　　同社は、製造工場を持たないファブレス半導体メーカーで、「Ｃｒｕｓｏｅ」や「Ｅｆｆｉｃｅｏｎ．」の第一世代（１３０ｎｍプロセス品）は台湾のＴＳＭＣに製造委託してきたが、最新の９０ｎｍプロセスを用いた製品は、富士通あきる野テクノロジセンターに製造委託している。

　　　「Ｃｒｕｓｏｅ」を小型ノートパソコンに搭載した実績もある富士通は、独自のハイ・パフォーマンス技術とトランスメタの低消費電力技術を融合し、ＡＳＩＣとＣＰＵ、そしてファウンダリ顧客の商品に活用できることを期待しているとしている。

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