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特許庁、無審査登録の導入など意匠制度改革案を検討
【法規】発信：2005/10/07(金)
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特許庁は１０月４日、魅力あるデザインを創造し、より価値の高い製品を提供する環境を整備するため、意匠制度の全般的なあり方を検討している産業構造審議会 知的財産政策部会 意匠制度小委員会（委員長：大渕哲也東京大学教授）に提出した「意匠制度の在り方について」と題する資料などを公表した。
９月２７日開催の第５回小委員会に提出された資料には、下記の項目について、それぞれ、問題の所在、対応の方向、論点が整理されたかたちで31ページにわたり論じられている。
１.意匠権の効力範囲の拡大
権利侵害行為への「譲渡等を目的とした所持」「輸出」「通過」などの追加や、意匠の類似の範囲拡大、意匠権の物品間の転用までの拡張などの検討。
２.無審査登録制度の導入によるダブルトラック化
現行の審査登録制度の存在を前提としつつ、新たに迅速、簡便なデザイン保護実現のため、無審査登録制度を並存させるダブルトラック化の検討。
３.意匠権の強化
存続期間の１５年から２０年の延長や、意匠権侵害に対する刑事罰強化。
４.意匠権の保護対象の拡大
現在対象外の操作画面等のデザインの保護
５.意匠登録制度の見直し
関連意匠制度、部品及び部分意匠の在り方、秘密意匠制度などの見直し
この中で、無審査登録制度の導入によるダブルトラック化は、現在約７ヶ月かかっている出願から権利化までの期間を、無審査制の導入によって短縮、登録費用の低減も検討することで、アパレル業界などのニーズに応えようとするもので、実用新案型、審査請求型、半導体集積回路法型、著作権型など４つの枠組みをあげ、その得失を検討している。
【詳細】産業構造審議会知的財産政策部会意匠制度小委員会
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