| 特許庁、国・地域別の模倣対策マニュアルの最新版を公表
【動向】発信：2008/06/12(木) 17:27:17 |
| 特許庁は６月１２日、日本貿易振興機構（ＪＥＴＲＯ）に委託して作成した、国、地域別の模倣品対策マニュアルの最新版（平成１９年度作成）を公表した。 特許庁では、平成９年度から、日本貿易振興機構と（財）交流協会に委託し、途上国・地域での模倣品対策に関する情報を収集し、企業等に対して、出版物やホームページ、セミナー等の形で提供するとともに、各種相談に対応しているが、その一環として、模倣品被害の多発する国・地域での対策方法に関する有益な情報をとりまとめた「模倣対策マニュアル」を、毎年作成している。 最新版として平成１９年度作成のものが公表されたのは、アセアン・インド、インド、インドネシア、タイ、台湾、中国の６つで、このうち「アセアン.インド知財保護ハンドブック」は、フィリピン、ベトナム、タイ、マレーシア、シンガポール、インドネシア、インドの７カ国の知財制度の比較や各国別の知財をめぐる状況をまとめたカラー７７ページの早分かりとなっている。 他の６冊は、各国別にまとめられた１５０〜３５０ページ程の詳細なマニュアルとなっているが、特に中国編は、模倣対策中心から各分野のトピックや契約関係の充実をはかり、掲載順序も法体系に沿ってではなく「輸出−委託製造−現地法人設立−Ｒ＆Ｄ設立」というビジネス展開に沿って整理するなど、昨年度までのマニュアルを一新、タイトルも「中国知財リスク対策マニュアル」となっている。 【詳細】模倣対策マニュアル |
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