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韓国地裁、ソウル半導体の日亜に対する名誉毀損を認める判決
【訴訟】発信：2008/09/04(木)
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〜ソウル半導体は、必ず名誉回復を図ると反論発表〜
日亜化学工業は８月２７日、韓国ソウル中央地方裁判所が、日亜に対する韓国ソウル半導体の名誉毀損を認める判決を下したと発表した。この訴訟は日亜が昨年１２月に提起していたもので、判決では、ソウル半導体に1000万ウォンの損害賠償の支払いと名誉回復のための適当な措置が命じられたという。
この名誉毀損訴訟は、2006年1月に日亜がソウル半導体を相手に米国カリフォルニア州北部連邦地裁に提起した意匠権侵害訴訟での陪審員評決に関連して、ソウル半導体が虚偽の事実をマスコミ関係者らに流布し、日亜の名誉を毀損したとして日亜が提起していたものとしている。
意匠権侵害訴訟では、2007年11月、同連邦地裁で、日亜の４件の米国意匠権をソウル半導体が故意に侵害したとの陪審員評決が下り、この評決を受けた同連邦地裁の判決は2008年2月7日に出されたが、ソウル半導体は、このような事実にもかかわらず、「事実上の非侵害が認められ、今回の訴訟でソウル半導体が勝訴した」という内容の虚偽事実をソウル半導体のホームページに掲載する一方、同じ内容の報道資料を記者に配布したとしている。
日亜としては、このような明らかな虚偽の流布に対し、正当な判決が下されたことを歓迎するとしている。
一方、ソウル半導体も同日、ソウル地裁が、名誉毀損訴訟で日亜の主張を支持したことに納得できず、即座に控訴し名誉回復をさせると発表した。本件に限らず名誉毀損された多くの事案についても、これを契機にはっきりとした名誉回復の為の処置を取り続けると強調している。
ソウル半導体によると、今回の名誉毀損訴訟の発端は、アメリカで特許意匠侵害により４百万ドルの損害賠償請求提訴によるもので、第一審では大部分の請求事実が棄却され、開発サンプルとして販売された物品の損害について賠償命令がなされ、被害相当額が６２＄であった。ソウル半導体はこの決定を不服として名誉回復の意味を含めて控訴し継続審議中であり、またUSPTO（米国特許商標庁）へ無効訴訟も行なったとしている。
また、日亜は、米国で意匠権侵害訴訟を提起する以前の2005年3月、ソウル半導体宛に「意匠権侵害中止要請の件」との題目の警告状を送っているが、韓国特許審判院では2006年12月に、警告状で言及された日亜の韓国意匠権の登録が無効であるとの決定が下されているという。
さらに、日亜は、2007年9月、ソウル半導体に対して、日亜の韓国特許第406201号(201特許)を侵害するとして提訴したが、ソウル半導体は、特許審判院へ無効審判と権利範囲確認審判を請求し、2008年7月23日、韓国特許審判院による201特許に対する無効審決及びソウル半導体の特許技術が日亜の201登録に属さないとの決定を受け勝訴していると述べている。
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