特許庁、意匠公知資料（新製品の写真等）公開許諾協力のお願い 2009/06/15(月) 16:10:37

特許庁、意匠公知資料（新製品の写真等）公開許諾協力のお願い
【動向】発信：2009/06/15(月)

　　特許庁は６月１５日、意匠審査での新規性判断のため、雑誌、カタログ、インターネット等から新製品の写真・図面等のイメージデータを収集・整理・電子化して作成している「意匠公知資料データベース」の一般公開のため、著作権物の公開許諾を得る事業の平成２１年度の予定を公表した。

　　特許庁は、国内外の雑誌、カタログ、インターネットホームページに掲載されている新製品のデザイン（写真・図面等）情報を収集・整理・電子化して、特許庁内の意匠公知資料のデータベースを構築している。この意匠公知資料データベースに対して、一般公開の要望があるが、個々の資料には著作権があり、許可なく公開できないため、特許庁意匠課が、前年度に収集、蓄積した意匠公知資料を対象として、国内の著作権者に公開の許諾を得る事業を行っている。

　　平成21年度は、平成20年度に蓄積した意匠公知資料を対象に、下記スケジュールに従って実施していく予定で、協力をお願いするとしている。

(1) Ｈ２０年度収集した公知資料対象の公知資料データ送付の確認
「意匠公知資料利用許諾データの送付確認書」を送付し、事前に公知資料データを送付してよいか確認をとる。
　　　　６月中旬～７月１６日

(2) 送付了解者に対する許諾対象の公知資料データ等の送付
　　　　１１月頃予定

(3) 公開利用についての許諾の確認
　　　　１１月頃～１月中旬頃予定

　　なお、平成20年度(H18年度及びH19年度に蓄積した意匠公知資料を対象)は、2541社より、36463件について公開の許諾を得て、今年6月下旬には特許電子図書館(IPDL)にて公開できる予定となっているとしている。

【詳細】特許庁がインターネット、カタログ等から収集した新製品の写真・図面等(意匠公知資料)の公開利用許諾(公開利用許諾のための送付確認事業)についてのご協力のお願い

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