日米欧韓中の五大特許庁会合開催、特許審査協力強化に合意 2010/04/19(月) 23:16:57

日米欧韓中の五大特許庁会合開催、特許審査協力強化に合意
【動向】発信：2010/04/19(月)

　　特許庁は４月１９日、日米欧韓中の５か国・地域の特許庁が４月１５、１６日の両日、中国・桂林で第３回五大特許庁長官会合を開催したと発表した。五庁は、現在協力して行っている特許審査に関するワークシェアリングの取組を推進すべく、議論が進められてきた１０の基礎プロジェクトについて、その内容を評価・承認するとともに、実施を促進していくことに合意したとしている。

　　世界の特許出願件数は、2007年には約１８５万件にまで達しているが、日米欧韓中の五大特許庁への出願が約１４１万件と８割近くを占めており、また、その３割に当る約４３万件が五庁内で内容が重複した出願となっている。

　　このような世界的な出願増加で、急増する審査負担への対処が大きな課題となる中、五庁は2007年5月に初めて長官会合を開催し、審査のワークシェアリングや特許手続の効率化の取組について、情報共有を進めてきた。2008年10月の第２回長官会合では、出願書類の様式共通化など、ワークシェアリングの推進を目的とする１０の基礎プロジェクトの開始が合意され、2009年9月の副長官級会合では、同プロジェクトを推進するため、特許分類関連、情報技術関連、審査関連の３つの作業部会を設置することが決定されていた。

　　今回の会合では、３つの作業部会から１０の基礎プロジェクトに関する進捗報告がなされ、また、各作業部会での決定事項が評価・承認された。そして、各プロジェクトの進展と更なるワークシェアリングの促進に向けた今後の取組のほか、我が国が提唱する出願書類等のＸＭＬデータの記述様式の国際標準化の重要性、今後の五庁協力の短期・中期・長期目標の設定などについて議論され、今後の五庁協力をさらに強化していくことで合意したとしている。

　　特許庁では、今後も、五庁が引き続き協力していくことで、各庁における特許審査の質と審査効率が向上し、さらに、日本発の特許出願がグローバルに保護される環境がより一層整備されると期待されるとしている。

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