| 東京地裁、元社員のＩＣ微細化発明で日立に６３００万円支払い命ず
【訴訟】発信：2010/06/23(水) |
| 半導体基板に微細な集積回路パターンを焼き付けることができる「位相シフトマスク」の技術を発明した日立製作所の元社員岡本好彦さんが、同社に対し特許権譲渡対価の一部として計６億円の支払いを求めた訴訟で、東京地裁は６月２３日、発明の対価を約8500万円と認定し、同社が既に岡本さんに支払った報奨金約2200万円を差し引き、6300万円の支払いを命ずる判決を下した。 岡本さん側は「本発明に関して日立は約８０億円のライセンス料を得たと推定でき、発明者には２割に当たる約１６億円の請求権がある」と主張し、このうち６億円の支払いを要求。日立側は「岡本さんの発明は、実用化された技術と異なり商業的価値は低く、発明対価は報奨金（約2200万円）で支払い済み」と主張していた。 東京地裁の清水裁判長は、「岡本さんの発明自体は商業的には実用化されなかった」と認定し、特許で大きな利益が得られたのは、特許請求範囲の工夫など、会社側の役割が大きかったと判断。岡本さんの貢献度を４％とした上で、すでに支払われた報奨金を差し引いた約6300万円の支払いを日立に命じた。 岡本さんは判決後に記者会見し「ほとんど日立側の主張をのんだような判決で、額も満足できない」と批判、控訴する意向を示した。 |
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